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新型光刻机加紧研制,未来芯片技术或将迎来变革

2021.12.22

据悉,全球最先进的光刻机厂商ASML正在开发一款新版本的EUV光刻机,研制成功后它将是世界上最先进的芯片制造设备。

该光刻机名为High NA,目前第一台机器正在研发之中,预计摇到2023年才会提供先行体验,可以让芯片制造商更快地学习如何使用。客户可以在 2024 年和 2025 年将以此进行自己的研发工作。从 2025 年开始,它们很可能用于大批量制造。

新款NA光刻机可以制造出更复杂的芯片,光刻机是生产芯片最重要的工具,也是生产大规模集成电路的核心设备,决定着芯片工艺。小于5纳米的芯片晶圆,只能用EUV光刻机生产。EUV光刻机如今名气巨大,其实推出时间并不长。

虽然NA光刻机还未面世,但已经受到了全球芯片厂的关注,英特尔首席执行官此前就表示,英特尔有望成为ASML新机器的第一个使用者。


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