离子束切割抛光仪
离子束切割抛光仪是一种用于材料科学领域的工艺试验仪器,于2018年5月23日启用。
技术指标
抛光角度: +10° 到 -10° ,每个离子枪可独立调节 离子束能量: 100 V 到 8.0 kV 离子束流密度: 10 mA/cm2 峰值 抛光速度: 300 μm/h(8.0 kV条件下对于硅试样)。
主要功能
样品减薄、抛光。
推荐
离子束切割抛光仪是一种用于材料科学领域的工艺试验仪器,于2018年5月23日启用。
技术指标
抛光角度: +10° 到 -10° ,每个离子枪可独立调节 离子束能量: 100 V 到 8.0 kV 离子束流密度: 10 mA/cm2 峰值 抛光速度: 300 μm/h(8.0 kV条件下对于硅试样)。
主要功能
样品减薄、抛光。