关键词Plasma 3000,Plasma 2000,工业硅,耐氢氟酸进样系统国家产品标准GB/T2881-2014《工业硅》中规定,检测工业硅中杂质元素采用电感耦合等离子体发射光谱仪测定。本实验参照标准GB/T14849.4-2014《工业硅化学分析方法第四部分:杂质元素含量测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法》测定工业硅中铝、铬、钙、硼、铜、铁、镁、镍、锰、磷、钠、钛的元素含量。...
此次批准发布的173项国家标准中有多项仪器分析检测标准,如电感耦合等离子体原子发射光谱法、直流电弧原子发射光谱法、红外线吸收法等。仪表网整理如下。...
电感耦合等离子体质谱法2021/2/126GB/T 13747.3-2020锆及锆合金化学分析方法 第3部分:镍量的测定 丁二酮肟分光光度法和电感耦合等离子体原子发射光谱法GB/T 13747.3-19922021/2/127GB/T 13747.4-2020锆及锆合金化学分析方法 第4部分:铬量的测定 二苯卡巴肼分光光度法和电感耦合等离子体原子发射光谱法GB/T 13747.4-19922021...
、铁、硅、硼量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法推制金砷合金 砷量测定 电感耦合等离子体发射光谱法推制铑化合物化学分析方法 第2部分:杂质元素的测定 电感耦合等离子体发射光谱法推制钯化合物分析方法 氯量的测定 离子色谱法推制核级银-铟-镉合金化学分析方法推修稀土金属及其氧化物中稀土杂质化学分析方法 第1部分:镧中铈、镨、钕、钐、铕、钆、铽、镝、钬、铒、铥、镱、镥和钇量的测定推修稀土金属及其氧化物中稀土杂质化学分析方法...
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