GB/T 40279-2021
硅片表面薄膜厚度的测试 光学反射法
Test method for thickness of films on silicon wafer surface—Optical reflection method
GBT40279-2021, GB40279-2021
GB/T 40279-2021 中，可能用到以下仪器设备
- 标准号
- GB/T 40279-2021
- 别名
- GBT40279-2021
GB40279-2021 - 发布
- 2021年
- 发布单位
- 国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会
- 当前最新
- GB/T 40279-2021
- 引用标准
- GB/T 14264
- 本文件规定了采用光学反射法测试硅片表面二氧化硅薄膜、多品硅薄膜厚度的方法。 本文件适用于测试硅片表面生长的二氧化硅浅膜和多唱硅薄膜的厚度,也适用于所有光滑的.透明或半透明的、低吸收系数的薄膜厚度的测试,如非晶硅、氮化硅、类金刚石镀膜、.光刻胶等表面薄膜。测试范围为15 nm一105 nm 。