化学气相沉积是一种化工技术,该技术主要是利用含有薄膜元素的一种或几种气相化合物或单质、在衬底表面上进行化学反应生成薄膜的方法。学气相淀积法已经广泛用于提纯物质、研制新晶体、淀积各种单晶、多晶或玻璃态无机薄膜材料。这些材料可以是氧化物、硫化物、氮化物、碳化物,也可以是III-V、II-IV、IV-VI族中的二元或多元的元素间化合物,而且它们的物理功能可以通过气相掺杂的淀积过程精确控制。 ...
具体内容如下: 采购人名称:中国科学院微电子研究所 采购代理机构全称:东方国际招标有限责任公司 招标编号:OITC-G10032233 采购项目名称:中国科学院微电子研究所2010年仪器设备采购项目(第十一批) 第5包 等离子氮化系统、等离子化学增强气相淀积、硅化物热退火系统、接触与互连溅射台、快速热退火系统、钨化学气相沉积系统 成交金额:983万美元 成交供应商名称...
石墨烯器件测试结果 (三)化学气相淀积(CVD)石墨烯器件 在铜箔上采用化学气相淀积(CVD)方法制备的大面积石墨烯材料上,实现了晶圆级石墨烯电子器件的规模化制备。测试数据显示,器件整体性能在500MHz以上,最高截止频率达到1.1GHz(图3所示),器件成品率达到80%以上,成为国内首个公开报道的在CVD方法生长石墨烯上制备出截止频率达到GHz以上的团队。 图3....
分析测试百科网讯 近日,中国科学院半导体研究所采购厚氮化硅感应耦合等离子体化学气相沉积台、硅基铌酸锂薄膜电感耦合等离子刻蚀机,预算金额903万元,文件详情如下:设备用途:1.厚氮化硅感应耦合等离子体化学气相沉积台用于光波导器件表面的氧化硅及氮化硅薄膜淀积,适用于波导器件中包层薄膜的沉积。...
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