GB/T 34177-2017
光刻用石英玻璃晶圆

Quartz glass wafer for lithography

GBT34177-2017, GB34177-2017


 

 

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标准号
GB/T 34177-2017
别名
GBT34177-2017, GB34177-2017
发布
2017年
发布单位
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
当前最新
GB/T 34177-2017
 
 

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光刻机的概述

浸泡在腐化剂中,失去保护膜的部分被腐蚀掉后形成电路。  纯水洗净残留在表面的杂质。  其中曝光机就是利用紫外线通过模版去除表面的保护膜的设备。  一片可以制作数十个集成电路,根据模版曝光机分为两种:  模版和大小一样,模版不动。  模版和集成电路大小一样,模版随曝光机聚焦部分移动。  ...

什么是光刻

浸泡在腐化剂中,失去保护膜的部分被腐蚀掉后形成电路。纯水洗净残留在表面的杂质。其中曝光机就是利用紫外线通过模版去除表面的保护膜的设备。一片可以制作数十个集成电路,根据模版曝光机分为两种:模版和大小一样,模版不动。模版和集成电路大小一样,模版随曝光机聚焦部分移动。其中模版随曝光机移动的方式,模版相对曝光机中心位置不变,始终利用聚焦镜头中心部分能得到更高的精度。成为的主流。...

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