正因为这些优点,使ICP-MS分析技术广泛应 用于半导体工业用高纯材料的痕量杂质分析中.主要进行的高纯材料分析1. IC硅片表面杂质分析2. 光伏多晶硅、单晶硅杂质分析3. 三氯氢硅、四氯化硅: ICP.MS法测定高纯四氯化硅中们、V、cr、‘ Co、Ni、Cu、Pb、Zn、Mn九种金属元素.4....
主要进行的高纯材料分析1、IC硅片表面杂质分析;2、光伏多晶硅、单晶硅杂质分析;3、三氯氢硅、四氯化硅:ICP-MS法测定高纯四氯化硅中们、V、cr、‘ Co、Ni、Cu、Pb、Zn、Mn九种金属元素;4、超净赢纯试剂分析:括氢氟酸、硝酸、硫酸、盐酸、氨水、双氧水等超纯无机试剂,和异丙醇(IP:A)、丙酮、四甲基氢氧化铵(TMAH),N—甲基丙络烷酮 (NMP)、丙二醇甲基醚乙酯(PGMEA)等超纯有机试剂...
Copyright ©2007-2022 ANTPEDIA, All Rights Reserved
京ICP备07018254号 京公网安备1101085018 电信与信息服务业务经营许可证:京ICP证110310号