椭偏测量原理 椭偏仪的应用 1892年,德国的Drude教授发明了椭偏仪,真正的应用发展是在上世纪六、七十年代蓬勃兴起的半导体领域,半导体芯片就是典型的纳米薄膜产品,芯片经镀膜后、进行光刻、再镀膜,所以芯片有几十道工序要用到椭偏仪。目前光伏产品生产的过程控制也离不开椭偏仪。 ...
因此,在MIM和椭偏测量中,a-BN的κ值不必不同。文献2使用椭偏仪的原始κ值1.88与MIM设备的κ值进行了比较。事实上,椭偏测量可以得到一系列a-BN薄膜的介电常数。在我们的原始论文中,出于谨慎,我们使用了测量的最高值1.88,但对原始数据的更详细分析和额外的新结果表明,a-BN的κ值是1.58±0.14。椭偏仪检测法是一种非接触光学技术,在电气测量中不存在人工痕迹。...
相比传统的膜厚测量工具,如椭偏仪、台阶仪、X-ray测厚仪等,Layerprobe功能可进行可视化及无损的厚度分析,分辨率优于1nm。LayerProbe内置了谱图模拟器,可根据用户输入的膜层结构建模并生成理论谱图。软件自动迭代模型中的未知量(例如膜厚),直至理论谱图与实验谱图的差异发生收敛,从而实现膜厚测量。...
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