DANSK DS/ISO 8181:2023
原子层沉积 词汇

Atomic layer deposition – Vocabulary


标准号
DANSK DS/ISO 8181:2023
发布
2023年
发布单位
SCC
当前最新
DANSK DS/ISO 8181:2023
 
 
适用范围
本文件定义了原子层沉积（ALD）的通用术语和薄膜生长工艺。根据前驱体在基底上依次进行的表面反应之间的间隔，ALD技术分为传统的时间分离ALD和空间ALD。除平面基底外，ALD还可用于微纳米颗粒的镀膜，这是粉末ALD发展而来的。还包括一些能量增强的ALD技术。本文件规定了不同ALD方法的工艺。本文件适用于ALD工艺。本文件不适用于沉积的材料或特定的纳米结构。本文件适用于与ALD有关的工业生产、科研、教学、出版和科技交流。

DANSK DS/ISO 8181:2023相似标准

GB/T 2900.104-2021 电工术语 微机电装置 GB/T 30544.3-2015 纳米科技 术语 第3部分:碳纳米物体 ISO 8181:2023 原子层沉积术语 ISO/DIS 8181 原子层沉积的术语 GB/T 22461-2008 表面化学分析.词汇

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