ISO 8181:2023
原子层沉积术语
Atomic layer deposition — Vocabulary
- 标准号
- ISO 8181:2023
- 发布
- 2023年
- 发布单位
- 国际标准化组织
- 当前最新
- ISO 8181:2023
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原子层沉积
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原子层沉积的研究
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原子层沉积系统（ALD）的应用
原子层沉积技术由于其沉积参数的高度可控型（厚度、成份和结构） 原子层沉积（Atomic Layer Deposition，ALD），最初称为原子层外延（Atomic Layer Epitaxy，ALE），也称为原子层化学气相沉积（Atomic Layer Chemical Vapor Deposition，ALCVD）。...
原子层沉积系统（ALD）的介绍
是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层的镀在基底表面的方法。原子层沉积与普通的化学沉积有相似之处。但在原子层沉积过程中，新一层原子膜的化学反应是直接与之前一层相关联的，这种方式使每次反应只沉积一层原子。...