GB/T 34900-2017
微机电系统(MEMS)技术 基于光学干涉的MEMS微结构残余应变测量方法

Micro-electromechanical system technology—Measuring method for residual strain measurements of MEMS microstructures using an optical interferometer

GBT34900-2017, GB34900-2017


GB/T 34900-2017 发布历史

GB/T 34900-2017由中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会 发布于 2017-11-01,并于 2018-05-01 00:00:00.0 实施。

GB/T 34900-2017 在中国标准分类中归属于: L55 微电路综合,在国际标准分类中归属于: 31.200 集成电路、微电子学。

GB/T 34900-2017的历代版本如下:

  • 2017年 GB/T 34900-2017 微机电系统(MEMS)技术 基于光学干涉的MEMS微结构残余应变测量方法
GB/T 34900-2017

标准号
GB/T 34900-2017
别名
GBT34900-2017
GB34900-2017
发布
2017年
发布单位
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
当前最新
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