找不到引用T/CNIA 0011-2019 气相沉积法碳化硅涂层 的标准
双层碳膜形成机制图 近日,中国科学院兰州化学物理研究所先进润滑与防护材料研究发展中心在四氯化碳气氛下碳化硅表面双层碳膜制备方面取得了新进展。 研究人员以四氯化碳为氯气源和碳源,通过碳化物衍生碳(CDC)过程和化学气相沉积(CVD)法,成功地在碳化硅表面制备出了双层碳膜。该双层碳膜分别由通过对碳化硅氯化形成的CDC亚表层和对四氯化碳热解形成的CVD表层构成。...
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