例如，如果想把硅附着在材料表面，需要使用三氯硅烷(SiHCl3)前体，当SiHCl3在腔室加热时，分解和涂层反应如下：SiHCl3 → Si + Cl2 + HCl硅将结合到任何暴露的表面（内部和外部），而氯气和盐酸气体将从腔室排放并根据适当的法规要求进行清除。CVD涂层系统中使用的材料从硅化合物到碳化合物，到氟碳或有机氟，以及类似氮化钛这样的氮化物。...
SilcoTek®公司CVD涂层系统中使用的材料大致有从硅化合物到碳化合物、氟碳或有机氟，以及类似氮化钛这样的氮化物。一些材料如硅，可以通过掺杂不同气，使表面（改变或添加额外的化学物质）来进一步增强涂层的功能，以达到特定的性能目的和指标。...
例如，如果想把硅附着在材料表面，需要使用三氯硅烷(SiHCl3)前体，当SiHCl3在腔室加热时，分解和涂层反应如下：SiHCl3 → Si + Cl2 + HCl硅将结合到任何暴露的表面（内部和外部），而氯气和盐酸气体将从腔室排放并根据适当的法规要求进行清除。CVD涂层系统中使用的材料从硅化合物到碳化合物，到氟碳或有机氟，以及类似氮化钛这样的氮化物。...
物理气相沉积(PVD)涂层已经大规模应用于高速切削刀具和精密模具领域，由于具有高的膜-基结合力、硬度和耐磨性，物理气相沉积多层硬质涂层可以数倍地提高刀具和模具的使用寿命。...
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