DB35/T 1146-2011
硅材料中杂质元素含量测定 辉光放电质谱法

Determination of Impurity Element Content in Silicon Materials by Glow Discharge Mass Spectrometry


DB35/T 1146-2011 中,可能用到以下仪器

 

Profiler HR 辉光放电光谱仪

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HORIBA科学仪器事业部

 

辉光Element GD Plus™ GD-MS

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赛默飞色谱与质谱分析

 

赛默飞Ultra 高分辨率 IRMS

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赛默飞色谱与质谱分析

 

赛默飞Ultra高分辨率同位素比质谱仪

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赛默飞世尔科技(中国)有限公司

 

SIRIX 高分辨气体同位素比质谱仪

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天美仪拓实验室设备(上海)有限公司

 

全自动磁控离子溅射仪 GVC-2200手套箱专用

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北京中科科仪股份有限公司

 

全自动磁控离子溅射仪 GVC-2200用于光学领域

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北京中科科仪股份有限公司

 

Esco Frontier 放射线同位素通风橱

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益世科生物(Esco Lifesciences Group)

 

BRIGHT  KAS-2000F 离子溅射仪 橡胶喷镀

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北京欧波同光学技术有限公司

 

DB35/T 1146-2011

标准号
DB35/T 1146-2011
发布
2011年
发布单位
福建省地方标准
当前最新
DB35/T 1146-2011
 
 
本标准规定了测定硅材料中杂质元素含量的辉光放电质谱法(G D M S )所涉及的术语和定义、原理、试剂与材料、仪器设备、样品要求、样品要求、分析步骤、结果计算、允许偏差。 本标准适用于纯度不高于99.99999%的硅材料中的杂质元素L i、Be、B、N a、M g、A 1、P、K、T h、U等元素的测定

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DB35/T 1146-2011 中可能用到的仪器设备





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