T/CASAS 032-2023
碳化硅晶片表面金属元素含量的测定电感耦合等离子体质谱法

Test method for the content of metal elements on the surface of silicon carbide wafer—Inductively coupled plasma mass spectrometry

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标准号

T/CASAS 032-2023

发布

2023年

发布单位

中国团体标准

当前最新

T/CASAS 032-2023

 

 

适用范围

本文件描述了电感耦合等离子体质谱法测定碳化硅晶片表面金属元素含量的方法。 本文件适用于碳化硅单晶抛光片和碳化硅外延片表面痕量金属钠、铝、钾、钙、钪、钛、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、锌、银、钨、金、汞等元素含量的测定，测定范围为108 cm-2～1012 cm-2。 本文件适用于100 mm(4吋)～200 mm(8吋)碳化硅原生晶片、碳化硅退火片等无图形碳化硅晶片表面痕量金属元素含量的测定。 注：　碳化硅晶片表面的金属元素含量以每平方厘米的原子数计。

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