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*种形式在小规模低等级要求的洁净室车间设计中被广泛应用,对于大面积高等级的洁净车间则存在运行成本过高、占用空间过大等缺点。 第二种形式的设计可以满足集成电路制造无尘车间大面积高等级的要求,但运行成本较高,并且洁净室风速、风量调节困难,系统升级改造困难,因此操作灵活性很低。 ...
CMOS是能应用当代大规模半导体集成电路生产工艺来生产的图像传感器,具有成品率高、集成度高、功耗小、价格低等特点。CMOS技术是世界上许多图像传感器半导体研发企业试图用来替代CCD的技术。经过多年的努力,作为图像传感器,CMOS已经克服早期的许多缺点,发展到了在图像品质方面可以与CCD技术较量的水平。CMOS的水平使它们更适合应用于要求空间小、体积小、功耗低而对图像噪声和质量要求不是特别高的场合。...
,集成电路设计测试系统,集成电路芯片封装与平坦化系统,集成电路制造设备系统,扫描电子显微镜,实时空间瞬态多维物理表征系统,矢量网络分析仪,芯片在线测试平台。...
由于精密机械工业(如陀螺仪、微型轴承等加工)、半导体工业(如大规模集成电路生产)等对环境的要求,促进了洁净室技术的发展。国内曾统计过,在无洁净级别的要求的环境下生产MOS电路管芯的合格率仅10%~15%,64为储存器仅2%。目前在精密机械、半导体、宇航、原子能等工业中应用洁净室已相当普遍。...
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