ASTM F1617-98(2002)
ASTM F1617-98(2002)
- 标准号
- ASTM F1617-98(2002)
- 发布
- 1970年
- 发布单位
- /
- 当前最新
- ASTM F1617-98(2002)
- 引用标准
- ASTM E122 ASTM E673
- 适用范围
- 1.1 本测试方法涵盖采用二次离子质谱（SIMS）测定镜面抛光单晶硅和硅外延基板表面的总钠、铝、钾和铁。该测试方法测量每种金属的总量，因为该测试方法独立于金属的化学或电活性。
1.2 本测试方法可用于所有掺杂剂种类和掺杂剂浓度的硅。
1.3 本测试方法专门设计用于位于晶圆表面约 5 nm 范围内的表面金属污染。
1.4 该测试方法对于确定清洁后抛光硅基材的自然氧化物或化学生长氧化物的表面金属面密度特别有用。
1.5 该测试方法适用于面密度在 109 至 1014 个原子/cm2 之间的钠、铝、钾和铁。检测限由空白值或计数率限制决定，并且可能因仪器而异。
1.6 本测试方法是对：
1.6.1 全反射X射线荧光（TXRF），可以检测原子序数Z较高的表面金属，如铁，但不具有有用的（