ASTM F1617-98
用次级离子质谱测定法(SIMS)测定表面钠,铝,钾-硅和EPI衬底的标准试验方法

Standard Test Method for Measuring Surface Sodium, Aluminum, Potassium, and Iron on Silicon and EPI Substrates by Secondary Ion Mass Spectrometry

被代替

标准号

ASTM F1617-98

发布

1998年

发布单位

美国材料与试验协会

替代标准

ASTM F1617-98(2002)

当前最新

ASTM F1617-98(2002)

 

 

引用标准

ASTM E122 ASTM E673

适用范围

1.1 本测试方法涵盖使用二次离子质谱（SIMS）测定镜面抛光的单晶硅和硅外延基板表面的总钠、铝和钾。该测试方法测量每种金属的总量，因为该测试方法独立于金属的化学或电活性。
1.2 本测试方法可用于所有掺杂剂种类和掺杂剂浓度的硅。
1.3 本测试方法专门设计用于位于晶圆表面约 5 nm 范围内的表面金属污染。
1.4 该测试方法对于确定清洁后抛光硅基材的自然氧化物或化学生长氧化物的表面金属面密度特别有用。
1.5 该测试方法适用于钠、铝和钾面密度在 10 和 10 14 原子/cm 之间的情况。检测限由空白值或计数率限制决定，并且可能因仪器而异。
1.6 该测试方法是对以下方法的补充：
1.6.1 全反射 X 射线荧光（TXRF），可以检测较高原子序数 Z 的表面金属，但对于硅上的钠、钾和铝。
1.6.2 用于化学分析的电子能谱和俄歇电子能谱，可以检测低至10 12 至10 13 原子/cm 数量级的金属表面密度。
1.6.3 表面金属的气相分解（VPD），然后对VPD残留物进行原子吸收光谱（AAS）或电感耦合等离子体质谱（ICP-MS）分析，其中金属检测限为10至10 10 个原子/cm 2 。没有可用的空间信息，金属的 VPD 预富集取决于每种金属的化学性质。
1.7 本标准并不旨在解决与其使用相关的所有安全问题（如果有）。本标准的使用者有责任在使用前建立适当的安全和健康实践并确定监管限制的适用性。

ASTM F1617-98相似标准

推荐