T/CNIA 0017-2019
多晶硅用氯硅烷中杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法

Determination of Impurity Content in Chlorosilanes for Polysilicon by Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry

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标准号

T/CNIA 0017-2019

发布

2019年

发布单位

中国团体标准

当前最新

T/CNIA 0017-2019

 

 

适用范围

本标准规定了多晶硅用氯硅烷中杂质（硼、磷、铁、钙、铝、铬、镍、铜、锌、钛、钾、钠）含量的电感耦合等离子体质谱测定方法。 本标准适用于多晶硅用氯硅烷中杂质（硼、磷、铁、钙、铝、铬、镍、铜、锌、钛、钾、钠）含量的测定，测定范围为0 μg/L ～1000 μg/L。

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