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PSI算法借助适当的程序将表面相位图转换为样品高度分布图。 PSI模式可在所有的数值孔径(NA)下提供亚纳米级的垂直分辨率。放大倍率较小时(2.5X)可以测量较大视场范围，并具有同样的垂直分辨率。但是光波相干长度使其测量范围限制在微米级。PSI算法使neox 得到纳米尺度的形态特征，并以亚纳米尺度对超平滑的表面纹理参数作出评估。...
由于光学薄膜的性能对器件的功能和质量有着重要的影响，薄膜厚度是薄膜设计和工艺制造中的关键参数之一。正因如此检测薄膜的各项技术得到快速发展，特别是纳米级薄膜技术的迅速发展，使得精确测量薄膜厚度成为薄膜技术研究领域中的热点问题。薄膜厚度是否均匀一致是检测薄膜各项性能的基础，它会影响整个器件的最终质量。因此薄膜厚度测量是光学薄膜制备的基础检测项目之一。...
布鲁克文章推荐 第63期 Bruker Journal Club 布鲁克纳米表面仪器部 孙佩玲 博士 在目前的纳米级半导体制造中，高介电材料和超薄多层材料多用于提高器件的性能，薄膜之间的界面效应和表面信息的定量化成为决定半导体器件性能的关键。本文作者对氧化铪超薄膜的界面效应进行了研究，提出了一种简单、准确、无损的诊断方法：粗糙度缩放方法。...
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