ASTM UOP303-05
通过 ICP-OES 分析催化剂中的杂质

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适用范围: 该方法用于通过电感耦合等离子体原子发射光谱 (ICP-AES) 测定新鲜、再生和废氧化铝基、二氧化硅基或二氧化硅/氧化铝基催化剂中的痕量金属元素。 Fe、Ni、V、Ca、Mg、Mn、Cr、Sn、Cu、Zn、Ti、Pb、Na、Mo、Co 和 Si 在催化剂上定量测定。当Si是催化剂基质的组分时，未测定Si。如果需要，可以添加其他元素，但 Ba 和 Hg 无法测定。此外，As 和 P 是在再生或废氧化铝基催化剂上测定的。大多数规定元素的测定浓度范围为 0.005 至 2.0 质量％。测定的元素的具体浓度范围列于表1。该方法不适用于贵金属和催化剂上的改性剂。这些元素可以通过 UOP 方法 873 测定。该方法不能用于测定 α-氧化铝催化剂中的杂质。

ASTM UOP303-05通过 ICP-OES 分析催化剂中的杂质