ISO/WD TR 23683:2023
表面化学分析 扫描探针显微镜 使用电扫描探针显微镜对半导体器件中载流子浓度进行实验量化的指南

Surface chemical analysis — scanning probe microscopy — Guideline for experimental quantification of carrier concentration in semiconductor devices by using electric scanning probe microscopy


 

 

非常抱歉，我们暂时无法提供预览，您可以试试： 免费下载 ISO/WD TR 23683:2023 前三页，或者稍后再访问。

您也可以尝试购买此标准，
点击右侧 “购买” 按钮开始采购（由第三方提供）。

点击下载后，生成下载文件时间比较长，请耐心等待......

 

标准号
ISO/WD TR 23683:2023
发布
2023年
发布单位
国际标准化组织
当前最新
ISO/WD TR 23683:2023
 
 

ISO/WD TR 23683:2023相似标准

GB/T 42659-2023 表面化学分析 扫描探针显微术 采用扫描探针显微镜测定几何量：测量系统校准 BS ISO 18115-2:2021 表面化学分析 词汇 扫描探针显微镜中使用的术语 BS ISO 18115-2:2013 表面化学分析. 词汇. 扫描探针显微镜用术语 GB/T 36052-2018 表面化学分析 扫描探针显微镜数据传送格式 KS D 2714-2016(2021) 扫描探针显微镜－侧向力显微镜法

推荐

扫描隧道显微镜怎样操纵原子

由于半导体电容依赖于载流子的浓度，因此研究者可以用SCM绘制出掺杂剂在半导体中的分布图。...

欲善其事，先利其器---布鲁克在线研讨会之材料专场

基于原子力技术的原子力显微镜可以从纳米尺度对半导体材料的表面特性、力学特性、电学特性进行分析。通过原子力显微镜技术， 研究者可以对GaN、SiC、SiGe 等新型半导体材料在工艺工程中呈现的特性进行研究，了解这些新材料中的电子状态和能带结构以及这些材料的导电机理。推进这些新材料在半导体器件中的新的应用。原子力显微镜在半导体材料研究、工艺过程检测中越来越不可或缺。   ...

布鲁克在线研讨会材料专场开始报名啦！

基于原子力技术的原子力显微镜可以从纳米尺度对半导体材料的表面特性、力学特性、电学特性进行分析。通过原子力显微镜技术， 研究者可以对GaN、SiC、SiGe 等新型半导体材料在工艺工程中呈现的特性进行研究，了解这些新材料中的电子状态和能带结构以及这些材料的导电机理。推进这些新材料在半导体器件中的新的应用。原子力显微镜在半导体材料研究、工艺过程检测中越来越不可或缺。    ...

Nature Materials：指定位点的化学掺杂在有机半导体晶体表面的电子分布

布鲁克的扫描电势显微镜（ SKPM）拥有低噪声的AM-KPFM以及高灵敏度的FM-KPFM两种模式， 集高分辨表面扫描、高灵敏的电势扫描、量化的力学性能与一体，成为在半导体材料的研究、器件失效分析领域越来越重要的一种应用。该文章中使用Bruker Dimension® Icon™和Multimode原子力显微镜来表征h-BN和GNR样品。...

ISO/WD TR 23683:2023 中可能用到的仪器设备

光学仪器组件 扫描探针/原子力显微镜SPM/AFM 电化学工作站 电镜附件及外设 半导体专用检测仪器设备


Copyright ©2007-2022 ANTPEDIA, All Rights Reserved
京ICP备07018254号 京公网安备1101085018 电信与信息服务业务经营许可证：京ICP证110310号