X射线光电子能谱学(英文:X-ray photoelectron spectroscopy,简称XPS)是一种用于测定材料中元素构成、实验式,以及其中所含元素化学态和电子态的定量能谱技术。这种技术用X射线照射所要分析的材料,同时测量从材料表面以下1纳米到10纳米范围内逸出电子的动能和数量,从而得到X射线光电子能谱。X射线光电子能谱技术需要在超高真空环境下进行。...
8、成像XPS表面分析时的成像XPS可以提供表面相邻区中空间分布的元素和化学信息。对使用其他表面技术难以分析的样品而言,成像XPS是特别有用途的。这包括从微米到毫米尺度范围内非均匀材料、绝缘体、电子束轰击下易损伤的材料或要求了解化学态在其中如何分布的材料。在成像XPS中,除了提供元素和化学态分布外,还能用于标出覆盖层稠密度,以估算X射线或离子束斑大小和位置,或检验仪器中电子光学孔径的准直。...
XPS作为一种高效的表面分析手段,不仅广泛应用于化学分析、材料应用开发、物理理论研究等学术领域,对于机械加工、印刷电路、镀膜材料工艺控制和纳米功能材料开发等工业领域,XPS也能提供全方位的解决方案。Thermo Scientific™ Avantage软件是所有赛默飞XPS系统(K-Alpha、Nexsa和ESCALAB Xi+)均使用的表面分析软件,可充分发挥电子能谱仪的全部性能。...
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