/T 31370.2-2015平板显示器(FPD)彩色滤光片测试方法 第2部分:耐光性2015-10-0140GB/T 31370.3-2015平板显示器(FPD)彩色滤光片测试方法 第3部分:耐热性2015-10-0141GB/T 31370.4-2015平板显示器(FPD)彩色滤光片测试方法 第4部分:耐化学性2015-10-0142GB/T 31371-2015废弃电子电气产品拆解处理要求 台式微型计算机...
( SEMI 超净高纯试剂标准) 半导体集成电路用试剂材料的纯度要求较高,基本集中在SEMI G3、G4水平,我国的研发水平与国际尚存在较大差距;半导体分立器件对超净高纯试剂纯度的要求要低于集成电路,基本集中在 SEMI G2 级水平,国内企业的生产技术能够满足大部分的生产需要;平板显示和 LED 领域对于超净高纯试剂的等级要求为 SEMI G2、G3 水平,国内企业的生产技术能够满足大部分的生产需求...
目前一般都是用正胶,对于线宽要求不高的时候或者一些特殊的用途(比如PSS等)可以选择负胶(未完待续)优尼康:Filmetrics膜厚仪在光刻胶相关领域的应用 光刻胶厚度的量测,最初的方式是使用台阶仪来破坏性测试,因为光学测量可以快速无损测试,且干胶及湿胶均能够测试,目前大部分均已经采用光学方式测量膜厚。...
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