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第一步:制作光刻掩膜版(Mask Reticle)芯片设计师将CPU的功能、结构设计图绘制完毕之后,就可将这张包含了CPU功能模块、电路系统等物理结构的“地图”绘制在“印刷母板”上,供批量生产了。这一步骤就是制作光刻掩膜版。光刻掩膜版:(又称光罩,简称掩膜版),是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构,再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片上。...
若倾斜角过大,则基片边缘的图案将与光罩设计的位置有所差别,将影响到total pitch(图案实际长度与设计长度的误差容忍值)的误差。而一般接近式曝光技术解析度与光罩及基板的间隙和光的波长有关。随着基片的增大,光罩也随之增大,由于光罩本身的重量会使得光罩中间部分向下弯曲。如果弯曲程度得到控制,利用光线反射原理的检测(类似光的薄膜干涉)来推算光罩与基板的距离。...
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