VDI/VDE 5575 BLATT 2-2019由SCC 发布于 2019-12-01。
VDI/VDE 5575 BLATT 2-2019 X射线光学系统 测量方法 用于评估 X 射线光学系统的测量装置和方法的最新版本是哪一版？
最新版本是 VDI/VDE 5575 BLATT 2-2019 。
xrf和epma两种成分分析方法有何区别基本原理电子显微探针是指用聚焦很细的电子束照射要检测的样品表面，用X射线分光谱仪测量其产生的特征X射线的波长和强度。由于电子束照射面积很小，因而相应的X射线特征谱线将反映出该微小区域内的元素种类及其含量。 利用特征X射线波长来确定元素的叫做波谱仪(WDS），利用特征X射线能量不同来展谱的就称为能谱仪(EDS）。...
利用特征X射线波长来确定元素的叫做波谱仪(WDS），利用特征X射线能量不同来展谱的就称为能谱仪(EDS）。电子探针 利用电子显微探针原理和技术来分析样品的仪器。 仪器构造：主要由电子光学系统（镜筒），X射线谱仪和信息记录显示系统组成。 1.电子光学系统 为了提高X射线的信号强度，电子探针必须采用较扫描电镜更高的入射电子束流，常用的加速电压为10-30 KV，束斑直径约为0.5μm。...
1、X射线激发系统垂直上照式X射线光学系统空冷式微聚焦型X射线管，Be窗标准靶材：Rh靶；任选靶材：W、Mo、Ag等功率：50W(4-50kV，0-1.0mA)－标准75W(4-50kV，0-1.5mA)－任选X射线管功率可编程控制装备有安全防射线光闸 2、滤光片程控交换系统根据靶材，标准装备有相应的一次X射线滤光片系统二次X射线滤光片：3个位置程控交换，Co、Ni、Fe、V等多种材质、多种厚度的二次滤光片任选位置传感器保护装置...
电子探针的原理如图1所示。图1（1）电子光学系统。电子束直径0.1～1μm，电子束穿透深度1～3μm。被激发原子发射特征X射线谱过程如下：围绕原子核运动的内层电子，被电子束的电子轰击后，其他外层电子为补充轰击出的电子而发生跃迁，在跃迁过程中释放出能量，即发射出X射线。（2）X射线谱仪。测量各种元素产生的X射线波长和强度，并以此对微小体积中所含元素进行定性和定量分析。...
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