图2 氢氟酸样品中氟硅酸测定谱图(点击查看大图)半导体制造用水和表面沾污中痕量离子的分析超纯水是为了研制超纯材料(半导体原件材料、纳米精细陶瓷材料等)应用蒸馏、去离子化、反渗透技术或其它适当的超临界精细技术生产出来的水,其电阻率接近18.3MΩ*cm极限值(25℃)。简单地说就是几乎去除氧和氢以外所有原子的水。我们利用双阀切换和在线富集,可以很好的测定超纯水中的ppt级别的痕量阴离子。...
赛默飞推出AU196:使用EPA 300.1(A)方法检测市政饮水中的阴离子(AN133升级版参考文献)使用IonPac TM AS22阴离子交换柱使用ICS-1100和ICS-1600离子色谱系统手工配制碳酸盐/碳酸氢盐淋洗液升级的检测方法将分离时间缩短了2分钟,并为合规监测提供了一种低成本的解决方案。 请点击文末“阅读原文”下载原文。↓↓↓↓↓↓...
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