高纯度水中的阴离子测定试验方法 是非强制性国家标准,您可以免费下载预览页
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图2 氢氟酸样品中氟硅酸测定谱图(点击查看大图)半导体制造用水和表面沾污中痕量离子的分析超纯水是为了研制超纯材料(半导体原件材料、纳米精细陶瓷材料等)应用蒸馏、去离子化、反渗透技术或其它适当的超临界精细技术生产出来的水,其电阻率接近18.3MΩ*cm极限值(25℃)。简单地说就是几乎去除氧和氢以外所有原子的水。我们利用双阀切换和在线富集,可以很好的测定超纯水中的ppt级别的痕量阴离子。...
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