ASTM E1438-91(2001)
用次级离子质谱法(SIMS)测量溅射深度成形界面的宽度

Standard Guide for Measuring Widths of Interfaces in Sputter Depth Profiling Using SIMS

被代替

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标准号

ASTM E1438-91(2001)

发布

1991年

发布单位

美国材料与试验协会

替代标准

ASTM E1438-06

当前最新

ASTM E1438-11(2019)

 

 

适用范围

1.1 本指南为 SIMS 分析人员提供了一种根据分层样品分析获得的 SIMS 溅射数据确定界面宽度的方法。本指南不适用于通过分析带有薄标记的样本或没有界面的样本（例如离子注入样本）获得的数据。
1.2 本指南不描述优化界面宽度或优化深度分辨率的方法。
1.3 本标准并不旨在解决与其使用相关的所有安全问题（如果有）。本标准的使用者有责任在使用前建立适当的安全和健康实践并确定监管限制的适用性。

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