ASTM E1438-06
用次级离子质谱法(SIMS)测量深度掺杂分布界面宽度标准指南
Standard Guide for Measuring Widths of Interfaces in Sputter Depth Profiling Using SIMS
- 标准号
- ASTM E1438-06
- 发布
- 2006年
- 发布单位
- 美国材料与试验协会
- 替代标准
- ASTM E1438-11
- 当前最新
- ASTM E1438-11(2019)
- 引用标准
- ASTM E673
- 适用范围
- 尽管希望通过使用标准样品和本指南来测量任何未知样品中的轮廓变形程度，但界面宽度（轮廓变形）的测量对于每个样品成分来说可能是唯一的（1,2,3）。3指南，它描述了一种确定所选操作条件集特定界面的唯一宽度的方法。它的主要目的是提供一种检查仪器性能是否正确或一致或两者兼而有之的方法。根据本指南，定期分析同一样品，然后测量界面宽度，将提供这些检查。本指南中描述的程序适用于任何具有层间界面的分层样品，其中指定元素存在于一层中而另一层中不存在。事实证明，对于特别是 SIMS (4, 5) 和一般表面分析 (6, 7)，只有严格的校准方法才能确定准确的界面宽度。此类程序极其耗时。因此，使用本指南中描述的程序获得的界面宽度测量结果可能包含显着的系统误差 (8)。因此，界面宽度的这种测量可能与用其他方法进行的类似测量无关。然而，这并不会削弱其作为检查仪器性能是否正确或一致，或两者兼而有之的用途。
1.1 本指南为 SIMS 分析人员提供了一种根据分层样品分析获得的 SIMS 溅射数据确定界面宽度的方法。本指南不适用于对具有薄标记的样品或没有界面的样品（例如离子注入样品）进行分析所获得的数据。
1.2 本指南不描述优化界面宽度或优化深度分辨率的方法。本标准不描述旨在解决与其使用相关的所有安全问题（如果有）。本标准的使用者有责任在使用前建立适当的安全和健康实践并确定监管限制的适用性。