ASTM E423-71(2002) 升温时非传导样品的正常光谱发射试验方法标准

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适用范围: 1.1 本测试方法描述了在 1000 至 1800 K 的温度范围内、在 1 至 35 m 的波长下测量非导电材料的正常光谱发射率的精确技术。它特别适合测量陶瓷氧化物等材料的法向光谱发射率，这些材料具有相对较低的热导率，并且在表面以下相当大的深度（几毫米）处是半透明的，但在厚度为 10 毫米或更薄时变得基本上不透明。
1.2 这种测试方法需要昂贵的设备和相当复杂的预防措施，但产生的数据精确度在百分之几以内。它特别适合需要最高精度和准确度的研究实验室，但不建议用于常规生产或验收测试。由于其准确性高，如有争议，本测试方法可作为生产和验收测试的参考方法。
1.3 本测试方法需要使用特定的试样尺寸和配置，以及特定的加热和观察。技术。参考文献（1）中介绍了关键样品炉的设计细节，并且必须使用这种设计的炉才能符合该测试方法。传输光学器件和分光光度计进行了一般性讨论。
1.4 本标准并不旨在解决与其使用相关的所有安全问题（如果有）。本标准的使用者有责任在使用前建立适当的安全和健康实践并确定监管限制的适用性。

ASTM E423-71(2002)
升温时非传导样品的正常光谱发射试验方法