GB/T 19444-2004
硅片氧沉淀特性的测定-间隙氧含量减少法

Oxygen precipitation characterization of silicon wafers by measurement of interstitial oxygen reduction

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GB/T 19444-2004

标准号
GB/T 19444-2004
发布日期
2004年02月05日
实施日期
2004年07月01日
废止日期
无
中国标准分类号
H26
国际标准分类号
29.040.01
发布单位
CN-GB
适用范围
本标准规定了由测量硅片间隙氧含量的减少量来检验硅片氧沉淀特性的方法原理、取样规则、热处理程序、试验步骤、数据计算等内容。 本标准用于定性比较两批或多批集成电路用硅片间隙氧沉淀特性。

GB/T 19444-2004系列标准

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