GB/T 19444-2004
硅片氧沉淀特性的测定-间隙氧含量减少法

Oxygen precipitation characterization of silicon wafers by measurement of interstitial oxygen reduction

GBT19444-2004, GB19444-2004


标准号
GB/T 19444-2004
别名
GBT19444-2004, GB19444-2004
发布
2004年
采用标准
ASTM F1239-94 IDT
发布单位
国家质检总局
当前最新
GB/T 19444-2004
 
 
适用范围
本标准规定了由测量硅片间隙氧含量的减少量来检验硅片氧沉淀特性的方法原理、取样规则、热处理程序、试验步骤、数据计算等内容。 本标准用于定性比较两批或多批集成电路用硅片间隙氧沉淀特性。

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