分为火花源质谱仪、离子探针质谱仪、激光探针质谱仪、辉光放电质谱仪、电感耦合等离子体质谱仪。火花源质谱仪不仅可以进行固体样品的整体分析,而且可以进行表面和逐层分析甚至液体分析;激光探针质谱仪可进行表面和纵深分析;辉光放电质谱仪分辨率高,可进行高灵敏度,高精度分析,适用范围包括元素周期表中绝大多数元素,分析速度快,便于进行固体分析;电感耦合等离子体质谱,谱线简单易认,灵敏度与测量精度很高。...
半导体材料检测方案GD-MS(辉光放电质谱仪)是在双聚焦高分辨质谱的技术上,采用快速流辉光放电离子源,实现高纯固体样品直接分析的最佳工具,具有检出限低、基体效应小、制样简单和全元素快速检测的突出优势。...
其它表面和深度分析技术,需要结构复杂的真空仪器,如二次离子质谱(SIMS)、辉光放电质谱(GD-MS)、俄歇电子能谱(AES)和X射线光电子能谱(XPS),检测速度慢或价格昂贵。LIBS可提供锂离子电池组件在实验室或工厂的深度分析能力,具有快速、灵敏度高、精确度高、全元素分析等特点。...
赛默飞GD-MS专家王贇杰为在座专家详细介绍了GD-MS(辉光放电质谱法)的使用特点和应用领域。辉光放电质谱法采用固体直接进样技术,具有样品制备简单,背景低,测试高效等优点。“Element GD采用双模式快速流离子源,连续直流放电具有高溅射效率,高分析灵敏度和低的记忆效应特点,脉冲放电适合于非导体、低熔点金属和镀层分析,并结合高分辨率磁质谱确保无干扰分析。...
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