BS EN 62418:2010
半导体器件.金属化应力空隙试验

Semiconductor devices. Metallization stress void test


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BS EN 62418:2010
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标准号
BS EN 62418:2010
发布
2010年
发布单位
英国标准学会
当前最新
BS EN 62418:2010
 
 
本国际标准描述了金属化应力空洞测试的方法和相关标准。 它适用于铝（Al）或铜（Cu）金属化。 本标准适用于半导体工艺的可靠性调查和鉴定。

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