ASTM F2405-04(2011)
用高质量分辨率辉光放电质谱仪测量高纯度铜中痕量金属杂质的标准试验方法
Standard Test Method for Trace Metallic Impurities in High Purity Copper by High-Mass-Resolution Glow Discharge Mass Spectrometer
ASTM F2405-04(2011) 发布历史
ASTM F2405-04(2011)由美国材料与试验协会 US-ASTM 发布于 2004。
ASTM F2405-04(2011) 在中国标准分类中归属于: H13 重金属及其合金分析方法。
ASTM F2405-04(2011) 发布之时，引用了标准
- ASTM E135 金属、矿石及相关材料的分析化学的有关标准术语
- ASTM E173 ASTM E173-93
- ASTM E180 工业化学制品的分析和试验的ASTM的方法的精确度测定的标准规程
- ASTM E691 为测定试验方法精密度开展的实验室间的研究
- ASTM E876 在光谱数据评估中使用统计数据的标准实践（2003 年撤回）
- ASTM F1593 应用高质量分辩率辉光放电质谱计测定电子级铝中微量金属杂质的标准试验方法
ASTM F2405-04(2011)的历代版本如下：
- 2004年 ASTM F2405-04(2011) 用高质量分辨率辉光放电质谱仪测量高纯度铜中痕量金属杂质的标准试验方法
- 2004年 ASTM F2405-04 使用高质量分辨率辉光放电质谱仪测量高纯度铜中痕量金属杂质的标准试验方法
该测试方法适用于半导体行业，用于评估薄膜金属化工艺中使用的材料（例如溅射靶材、蒸发源）的纯度。根据有关各方商定，该测试方法可能在负责技术委员会未设想的其他应用中有用。该测试方法旨在供各个实验室的 GDMS 分析人员使用，以统一测定铜中痕量杂质的方案和参数。目的是提高实验室间分析数据的一致性。该测试方法还针对 GDMS 分析的用户，以帮助他们了解测定方法以及报告的 GDMS 数据的重要性和可靠性。对于大多数金属物质，常规分析的检测限约为 0.01 wt。百万分之一。通过特殊的预防措施，检测限可以达到亚 ppb 水平。本测试方法可作为电子级铜材料生产者和用户的参考方法。
1.1 本测试方法涵盖高纯度（99.95wt.%纯，或更高纯度，相对于微量金属）微量金属杂质的浓度。杂质）电子级铜。
1.2 本试验方法适用于扇形磁辉放电质谱仪（GDMS）分析。
1.3 该测试方法不包括完成 GDMS 分析所需的所有信息。需要由经验丰富的操作员熟练使用的先进计算机控制实验室设备才能达到所需的灵敏度。该测试方法确实涵盖了负责技术委员会已知的影响高纯度铜分析可靠性的特定因素（例如，样品制备、相对灵敏度因素的设置、检测限的确定等）。
1.4 本标准并不旨在解决与其使用相关的所有安全问题（如果有）。本标准的使用者有责任在使用前建立适当的安全和健康实践并确定监管限制的适用性。
- 标准号
- ASTM F2405-04(2011)
- 发布
- 2004年
- 发布单位
- 美国材料与试验协会
- 当前最新
- ASTM F2405-04(2011)
- 引用标准
- ASTM E135 ASTM E173 ASTM E180 ASTM E691 ASTM E876 ASTM F1593