ASTM F2405-04(2011)
用高质量分辨率辉光放电质谱仪测量高纯度铜中痕量金属杂质的标准试验方法
Standard Test Method for Trace Metallic Impurities in High Purity Copper by High-Mass-Resolution Glow Discharge Mass Spectrometer
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- 标准号
- ASTM F2405-04(2011)
- 发布
- 2004年
- 发布单位
- 美国材料与试验协会
- 当前最新
- ASTM F2405-04(2011)
- 引用标准
- ASTM E135 ASTM E173 ASTM E180 ASTM E691 ASTM E876 ASTM F1593
- 该测试方法适用于半导体行业，用于评估薄膜金属化工艺中使用的材料（例如溅射靶材、蒸发源）的纯度。根据有关各方商定，该测试方法可能在负责技术委员会未设想的其他应用中有用。该测试方法旨在供各个实验室的 GDMS 分析人员使用，以统一测定铜中痕量杂质的方案和参数。目的是提高实验室间分析数据的一致性。该测试方法还针对 GDMS 分析的用户，以帮助他们了解测定方法以及报...