HG/T 4245-2011由行业标准-化工 CN-HG 发布于 2011-12-20,并于 2012-07-01 实施。
HG/T 4245-2011 在中国标准分类中归属于: G81 感光材料。
* 在 HG/T 4245-2011 发布之后有更新,请注意新发布标准的变化。
本标准规定了阳图型热敏CTP版材用感光胶的要求、试验方法、检验规则、标志、标签、包装、运输和贮存。 本标准适用于阳图型热敏CTP版材用感光胶。
12、高盟新材(300200)复合聚氨脂胶粘剂、油墨粘结料、背板材料、反光材料用高端复合胶粘剂、高铁用聚氨脂胶粘剂13、硅宝科技(300019)有机硅室温胶、偶联剂、设备14、海螺型材(000619)塑料型材、板材、门窗、五金制品15、红宝丽(002165)硬泡聚醚、异丙醇胺、保温材料16、回天新材(300041)有机硅胶、聚氨酯胶、其他胶类、非胶类、太阳能电池背膜17、金发科技(600143)阻燃树脂...
光刻胶:高壁垒,机会大光刻胶是利用化学反应进行图像转移的媒体,将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基片上的图形转移介质。光刻胶被广泛应用于光电信息产业的微细图形线路的加工制作,是微细加工技术的关键性材料。在光刻工艺中,光刻胶被均匀涂布在硅片、玻璃和金属等不同的衬底上,经曝光、显影和蚀刻等工序将掩膜版上的图形转移到薄膜上,形成与掩膜版完全对应的几何图形。...
光刻胶:高壁垒,机会大光刻胶是利用化学反应进行图像转移的媒体,将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基片上的图形转移介质。光刻胶被广泛应用于光电信息产业的微细图形线路的加工制作,是微细加工技术的关键性材料。在光刻工艺中,光刻胶被均匀涂布在硅片、玻璃和金属等不同的衬底上,经曝光、显影和蚀刻等工序将掩膜版上的图形转移到薄膜上,形成与掩膜版完全对应的几何图形。...
我们用AMD的来举例:同样核心的处理器都是一个生产线下来的,如果稳定工作在2.8GHz,1M*2的缓 存下,就被定义为5600+,如果缓存有瑕疵,切割有问题的那一半,成为5400+,如果缓存没问题而频率只能在2.6G通过测试,那么就是5200+, 如果缓存有瑕疵,就切割成为5000+…………一直把它测到3800+,如果还不稳定,要么想办法变成速龙64单核或者单核闪龙,或者就是出现过的ES版 的双核闪龙...
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