GB/T 28274-2012
硅基MEMS制造技术.版图设计基本规则
Silicon-based MEMS fabrication technology.The basic regulation of layout design
GB/T 28274-2012 中，可能用到以下仪器
- 标准号
- GB/T 28274-2012
- 发布日期
- 2012年05月11日
- 实施日期
- 2012年12月01日
- 废止日期
- 无
- 中国标准分类号
- L55
- 国际标准分类号
- 31.200
- 发布单位
- CN-GB
- 引用标准
- GB/T 26111-2010
- 适用范围
- 本标准规定了微结构加工时，光刻版图设计中图形设计应遵循的基本规则。 本标准适用于采用接触式单/双面光刻、氧化扩散、化学气相淀积（CVD）、物理气相淀积（PVD）、离子注入、反应离子刻蚀（RIE）、氢氧化钾（KOH）腐蚀、硅-玻璃对准静电结合、砂轮划片等基本工艺方法。