用于先进集成电路光刻工艺综合评估的图形规范 是非强制性国家标准,您可以免费下载预览页
本次报告,陈宝钦研究员主要讲解了从1958年世界上出现第一块平面集成电路到20世纪80年代世界上集成电路制造进入自动化大生产,再到2012年英特尔首款22纳米工艺处理器诞生等微光刻与电子束光刻技术的发展历程与现状,讨论了微光刻与电子束光刻技术在纳米级高分辨微图形转移等方面所面临的挑战以及需要对应解决的图形数据处理、图形曝光和图形刻蚀等关键技术问题。...
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