尽管它们是使用不同的模式(MS/MS和质量转移)和反应气体获得的,但均表现出良好的线性。截距表示该特定样品中污染物的水平。图1:采用MSA获得的2000ppm Si (P为1500ppm Si)校准曲线示例结论NexION 5000多重四极杆ICP-MS性能稳定,适合对高浓度硅基质中ppt级的超痕量杂质进行常规定量分析,符合半导体和太阳能行业的要求。...
分会场 2:化学检测分析分会场时间:10 月 17 日 9:15-9:30演讲主题:ICP-MS/MS 测定高纯金属中的痕量磷、硫、硅 讲师:郭伟 安捷伦 ICP-MS 应用工程师内容摘要:Agilent 8800/8900 串联四极杆 ICP-MS/MS 通过第一级四级杆 1 个质量数的精准筛选和碰撞反应池中可控的化学反应,有效、可靠地消除了多原子干扰,进而实现对痕量元素 P、S 和 Si 的准确测定...
其中最重要的是盐酸(HCl),其主要用途是与过氧化氢和水配制成混合物用来清洁硅晶片的表面。由于半导体设备尺寸不断缩小,其生产中使用的试剂纯度变得越来越重要。ICP-MS具备精确测定纳克/升(ng/L,ppt)甚至更低浓度元素含量的能力,是最适合测量痕量及超痕量金属的技术。然而,常规的测定条件下,氩、氧、氢离子会与酸基体相结合,对待测元素产生多原子离子干扰。...
由于半导体设备尺寸不断缩小,其生产中使用的试剂纯度变得越来越重要。ICP-MS具备精确测定纳克/升(ng/L,ppt)甚至更低浓度元素含量的能力,是最适合测量痕量及超痕量金属的技术。然而,常规的测定条件下,氩、氧、氢离子会与酸基体相结合,对待测元素产生多原子离子干扰。如,对V+(51) 进行检测时去除 ClO+ 的干扰。...
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