UOP 1006-2014
使用 ICP-MS 测定石油液体中的痕量硅

Trace Silicon in Petroleum Liquids by ICP-MS


标准号
UOP 1006-2014
发布
2014年
发布单位
环球油品公司(美国)
当前最新
UOP 1006-2014
 
 

UOP 1006-2014相似标准


推荐

使用NexION 5000 ICP-MS分析高纯度基质痕量污染物

尽管它们是使用不同模式(MS/MS和质量转移)和反应气体获得,但均表现出良好线性。截距表示该特定样品污染物水平。图1:采用MSA获得2000ppm Si (P为1500ppm Si)校准曲线示例结论NexION 5000多重四极杆ICP-MS性能稳定,适合对高浓度基质ppt级痕量杂质进行常规定量分析,符合半导体和太阳能行业要求。...

是不是这块“材料”,打卡 2018 ICASI & CCATM 就能 Get 到!

分会场 2:化学检测分析分会场时间:10 月 17 日 9:15-9:30演讲主题:ICP-MS/MS 测定高纯金属痕量磷、硫、 讲师:郭伟 安捷伦 ICP-MS 应用工程师内容摘要:Agilent 8800/8900 串联四极杆 ICP-MS/MS 通过第一级四级杆 1 个质量数精准筛选和碰撞反应池中可控化学反应,有效、可靠地消除了多原子干扰,进而实现对痕量元素 P、S 和 Si 准确测定...

半导体专用ICP-MS来帮你!

其中最重要是盐酸(HCl),其主要用途是与过氧化氢和水配制成混合物用来清洁晶片表面。由于半导体设备尺寸不断缩小,其生产中使用试剂纯度变得越来越重要。ICP-MS具备精确测定纳克/升(ng/L,ppt)甚至更低浓度元素含量能力,是最适合测量痕量及超痕量金属技术。然而,常规测定条件下,氩、氧、氢离子会与酸基体相结合,对待测元素产生多原子离子干扰。...

试一试专用ICP-MS

由于半导体设备尺寸不断缩小,其生产中使用试剂纯度变得越来越重要。ICP-MS具备精确测定纳克/升(ng/L,ppt)甚至更低浓度元素含量能力,是最适合测量痕量及超痕量金属技术。然而,常规测定条件下,氩、氧、氢离子会与酸基体相结合,对待测元素产生多原子离子干扰。如,对V+(51) 进行检测时去除 ClO+ 干扰。...


UOP 1006-2014 中可能用到的仪器设备





Copyright ©2007-2022 ANTPEDIA, All Rights Reserved
京ICP备07018254号 京公网安备1101085018 电信与信息服务业务经营许可证:京ICP证110310号