石墨烯(GR)中的杂质测定的应用方案(ICP-AES法)01引言石墨烯(GR)由于其独特的微观结构使其具有优异的光学、电学和力学等性能,被广泛应用于材料化工、电化学、超级电容器、纳米电子器件及生物医药等领域。但GR在制备过程中引入的杂质元素(主要为过渡金属和硫)会大大影响其优异性能,从而制约其发展,因此,准确测量GR中的杂质元素含量具有非常重要的意义。...
•痕量金属检测痕量元素现在通过使用诸如ICP-MS技术,可测定在ppt和亚ppt水平的物质。痕量分析工作需要不含可测定成分的纯水,并且水质要求适用于最严格最灵敏的ICP-MS工作。因此,空白试剂,标准样稀释和样本制备均需要纯度最高的超纯水,甚至需要在无尘室中操作。图为不同HPLC用水在UV 210 nm下获得的空白色谱图。 ...
激光光谱主要用于表面、微区的分析,是检测高纯材料痕量杂质的重要方法。能实现贵金属和贱金属同时测定的AES 技术,特别是电感耦合等离子体发射光谱法( ICP-AES) 联用技术在痕量金属分析领域的应用也比较广泛。...
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