GB/T 32495-2016
表面化学分析 二次离子质谱 硅中砷的深度剖析方法

Surface chemical analysis.Secondary-ion mass spectrometry.Method for depth profiling of arsenic in silicon

GBT32495-2016, GB32495-2016

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标准号

GB/T 32495-2016

别名

GBT32495-2016, GB32495-2016

发布

2016年

发布单位

国家质检总局

当前最新

GB/T 32495-2016

 

 

引用标准

GB/T 20176-2006 GB/T 22461-2008 GB/T 25186-2010 ISO 18115-1

适用范围

本标准详细规定了用扇形磁场或四极杆式二次离子质谱仪对硅中砷进行深度剖析的方法，以及用触针式轮廓仪或光学干涉仪深度定标的方法。本标准适用于砷原子浓度范围从1 × 10¹⁶ atoms/cm³~2.5 × 10²¹ atoms/cm³的单晶硅、多晶硅、非晶硅样品，坑深在50 nm及以上。

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