图中描绘了4层彼此嵌套的反射镜,与美国航天局的钱德拉X射线天文台结构相同。图/CXO当光子能量继续增高,达到硬X射线或软伽玛射线的范畴时,掠射也无济于事,我们要换用无聚焦的编码掩模来开展观测。简单说来,掩模本体由对高能光子透明与不透明的金属掩模元交替排列而成,凭借接收端仪器上掩模元投影的位置与强度分布,即可推知辐射源的真实影像。...
光刻技术的发展史光刻技术是利用光化学反应原理和化学、物理刻蚀方法将掩模板上的图案传递到晶圆的工艺技术。光刻的原理起源于印刷技术中的照相制版,是在一个平面上加工形成微图形。光刻技术按曝光光源主要分为光学光刻和粒子束光刻(常见的粒子束光刻主要有X射线、电子束和离子束光刻等)。其中光学光刻是目前最主要的光刻技术,在今后几年内其主流地位仍然不可动摇。...
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