ASTM E1458-12(2016)由美国材料与试验协会 US-ASTM 发布于 2012。
ASTM E1458-12(2016)在国际标准分类中归属于: 19.120 粒度分析、筛分。
1.1 此测试方法描述了允许用户轻松验证激光衍射粒度仪是否在公差极限规格内运行所需的程序,例如,使得仪器精度如制造商所述。推荐的校准验证方法对仪器在一个或多个校准点的整体性能提供了决定性的指示,但特别不能推断仪器性能的所有因素都得到了验证。实际上,使用该测试方法将验证涉及已知折射率的球形颗粒的应用的仪器性能,其中近前向光散射特性由仪器数据处理和数据简化软件精确建模。因此,本文提出的精度和偏差限制是理想条件下仪器性能的估计。实际应用中可能存在的、可能显着增加激光衍射仪器偏置误差的非理想因素包括渐晕4(即,远离接收透镜的粒子以大角度散射的光不会穿过接收透镜,因此未到达检测器平面)、非球形颗粒的存在、折射率未知的颗粒的存在以及多重散射。
1.2 本测试方法应作为仪器性能的重要测试。虽然该程序不是为仪器的广泛校准调整而设计的,但它应用于持续验证定量性能,将一种仪器的性能与另一种仪器的性能进行比较,并为测试的仪器提供误差限度。 1.3 该测试方法提供了对控制激光衍射粒度测量结果的一些重要参数的间接测量。影响仪器性能的所有参数的确定将通过校准调整程序进行。 1.4 该测试方法应定期进行,其频率取决于仪器使用的物理环境。因此,粗暴处理或在不利条件下使用(例如,暴露于灰尘、化学蒸汽、振动或其组合)的装置应进行校准......
图中描绘了4层彼此嵌套的反射镜,与美国航天局的钱德拉X射线天文台结构相同。图/CXO当光子能量继续增高,达到硬X射线或软伽玛射线的范畴时,掠射也无济于事,我们要换用无聚焦的编码掩模来开展观测。简单说来,掩模本体由对高能光子透明与不透明的金属掩模元交替排列而成,凭借接收端仪器上掩模元投影的位置与强度分布,即可推知辐射源的真实影像。...
光刻技术的发展史光刻技术是利用光化学反应原理和化学、物理刻蚀方法将掩模板上的图案传递到晶圆的工艺技术。光刻的原理起源于印刷技术中的照相制版,是在一个平面上加工形成微图形。光刻技术按曝光光源主要分为光学光刻和粒子束光刻(常见的粒子束光刻主要有X射线、电子束和离子束光刻等)。其中光学光刻是目前最主要的光刻技术,在今后几年内其主流地位仍然不可动摇。...
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