ISO 17109-2015
表面化学分析. 深度剖析. 使用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱, 俄歇电子能谱以及二次离子质谱法溅射深度剖析中溅射率的方法

Surface chemical analysis - Depth profiling - Method for sputter rate determination in X-ray photoelectron spectroscopy, Auger electron spectroscopy and secondary-ion mass spectrometry sputter depth profiling using single and multi-layer thin films

ISO 17109-2015 发布历史

ISO 17109-2015由国际标准化组织 IX-ISO 发布于 2015-08。

ISO 17109-2015 在中国标准分类中归属于: G04 基础标准与通用方法，在国际标准分类中归属于: 71.040.40 化学分析。

ISO 17109-2015 发布之时，引用了标准

• ISO 14606-2000 表面化学分析 溅射深度剖析 用层状膜系为参考物质的优化方法
• ISO/TR 15969-2001 表面化学分析 深度描述 溅射深度测量
• ISO 18115-2001 表面化学分析 词汇

ISO 17109-2015的历代版本如下：

• 2015年08月 ISO 17109-2015 表面化学分析. 深度剖析. 使用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱, 俄歇电子能谱以及二次离子质谱法溅射深度剖析中溅射率的方法
• 2022年03月01日 ISO 17109-2022 表面化学分析.深度剖面.用单层和多层薄膜在X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中测定溅射速率的方法

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标准号

ISO 17109-2015

发布日期

2015年08月

实施日期

废止日期

无

中国标准分类号

G04

国际标准分类号

71.040.40

发布单位

IX-ISO

引用标准

ISO 14606-2000 ISO/TR 15969-2001 ISO 18115-2001

被代替标准

ISO/FDIS 17109-2015