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高质光谱测量

本专题涉及高质光谱测量的标准有9条。

国际标准分类中，高质光谱测量涉及到半导体材料、有色金属、导体材料。

在中国标准分类中，高质光谱测量涉及到重金属及其合金分析方法、元素半导体材料、电子技术专用材料。

RU-GOST R，关于高质光谱测量的标准

• GOST 24977.2-1981 高纯度碲.杂质含量光谱测定法
• GOST 24977.1-1981 高纯度碲.杂质含量化学光谱测定法
• GOST 22518.1-1977 高纯度铅.对杂质含量化学-光谱测定法

美国材料与试验协会，关于高质光谱测量的标准

• ASTM F2405-04(2011) 用高质量分辨率辉光放电质谱仪测量高纯度铜中痕量金属杂质的标准试验方法
• ASTM F2405-04 使用高质量分辨率辉光放电质谱仪测量高纯度铜中痕量金属杂质的标准试验方法
• ASTM F1845-97 用高质量减少辉光放电质谱仪测量电子级铝铜、铝硅和铝铜硅中微量金属杂质的标准试验方法
• ASTM F1845-97(2002) 用高质量减少辉光放电质谱仪测量电子级铝铜、铝硅和铝铜硅中微量金属杂质的标准试验方法
• ASTM F1845-08 用高质量减少辉光放电质谱仪测量电子级铝铜、铝硅和铝铜硅中微量金属杂质的标准试验方法

国家质检总局，关于高质光谱测量的标准

• GB/T 32651-2016 采用高质量分辨率辉光放电质谱法测量太阳能级硅中痕量元素的测试方法

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