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x射线 俄歇电子能谱

本专题涉及x射线 俄歇电子能谱的标准有12条。

国际标准分类中，x射线 俄歇电子能谱涉及到分析化学、长度和角度测量。

在中国标准分类中，x射线 俄歇电子能谱涉及到基础标准与通用方法、质谱仪、液谱仪、能谱仪及其联用装置、化学助剂基础标准与通用方法。

国际标准化组织，关于x射线 俄歇电子能谱的标准

• ISO 21270:2004 表面化学分析 X射线光电子能谱仪和俄歇电子能谱仪.强度标的线性
• ISO 17109:2022 表面化学分析.深度剖面.用单层和多层薄膜在X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中测定溅射速率的方法
• ISO 17109:2015 表面化学分析. 深度剖析. 使用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱, 俄歇电子能谱以及二次离子质谱法溅射深度剖析中溅射率的方法

韩国科技标准局，关于x射线 俄歇电子能谱的标准

• KS D ISO 21270:2005 表面化学分析.X射线光电子能谱仪和俄歇电子能谱仪.强度标的线性
• KS D ISO 21270-2005(2020) 表面化学分析X射线光电子能谱仪和俄歇电子能谱仪强度标度的线性

国家质检总局，关于x射线 俄歇电子能谱的标准

• GB/T 21006-2007 表面化学分析 X射线光电子能谱仪和俄歇电子能谱仪 强度标的线性

英国标准学会，关于x射线 俄歇电子能谱的标准

• BS ISO 21270:2004 表面化学分析 X 射线光电子能谱仪和俄歇电子能谱仪 强度尺度的线性
• BS ISO 17109:2015 表面化学分析. 深度剖析. 使用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱, 俄歇电子能谱以及二次离子质谱法溅射深度剖析中溅射率的方法
• BS ISO 17109:2022 表面化学分析 深度剖析 使用单层和多层薄膜的 X 射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱溅射深度分析中溅射速率的测定方法...
• 21/30433862 DC BS ISO 17109 AMD1 表面化学分析 深度剖析 使用单一和……的 X 射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱溅射深度分析中溅射速率测定方法

未注明发布机构，关于x射线 俄歇电子能谱的标准

• BS ISO 21270:2004(2010) 表面化学分析 X射线光电子能谱仪和俄歇电子能谱仪 强度标度线性度

国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会，关于x射线 俄歇电子能谱的标准

• GB/T 41064-2021 表面化学分析 深度剖析 用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中深度剖析溅射速率的方法

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