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杂质 谱 分析
本专题涉及杂质 谱 分析的标准有25条。
国际标准分类中，杂质 谱 分析涉及到有色金属、分析化学、金属材料试验、无机化学、半导体材料、有机化学。
在中国标准分类中，杂质 谱 分析涉及到贵金属及其合金分析方法、、电子技术专用材料、半金属与半导体材料综合、一般有机化工原料。
RU-GOST R，关于杂质 谱 分析的标准
- GOST R 56240-2014 铜. 杂质的谱分析方法
- GOST 21979-1976 试剂.锌化合物.铜、铅、镉杂质含量极谱分析测定法
- GOST 20461-1975 气体氦.用乳剂光谱分析法对杂质含量测定法
行业标准-有色金属，关于杂质 谱 分析的标准
- YS/T 361-2006 纯铂中杂质元素的发射光谱分析
- YS/T 362-2006 纯钯中杂质元素的发射光谱分析
- YS/T 363-2006 纯铑中杂质元素的发射光谱分析
- YS/T 364-2006 纯铱中杂质元素的发射光谱分析
- YS/T 361-1994 纯铂中杂质元素的发射光谱分析
- YS/T 362-1994 纯钯中杂质元素的发射光谱分析
- YS/T 363-1994 纯铑中杂质元素的发射光谱分析
- YS/T 364-1994 纯铱中杂质元素的发射光谱分析
- YS/T 365-2006 高纯铂中杂质元素的发射光谱分析
- YS/T 365-1994 高纯铂中杂质元素的发射光谱分析
行业标准-电子，关于杂质 谱 分析的标准
- SJ/T 10553-2021 电子陶瓷用二氧化锆中杂质的发射光谱分析方法
- SJ/T 10552-2021 电子陶瓷用二氧化钛中杂质的发射光谱分析方法
- SJ/T 10552-1994 电子陶瓷用二氧化钛中杂质的发射光谱分析方法
- SJ/T 10553-1994 电子陶瓷用二氧化锆中杂质的发射光谱分析方法
- SJ 2594-1985 高纯四氯化硅中硼及金属杂质的化学光谱分析方法
- SJ/T 10551-1994 电子陶瓷用三氧化二铝中杂质的发射光谱分析方法
- SJ/T 10551-2021 电子陶瓷用三氧化二铝中杂质的发射光谱分析方法
- SJ 20744-1999 半导体材料杂质含量红外吸收光谱分析通用导则
- SJ 20713-1998 砷化镓用高纯镓中铜、锰、镁、钒、钛等12种杂质的等离子体光谱分析法
美国材料与试验协会，关于杂质 谱 分析的标准
- ASTM D7504-11 单环芳烃中微量杂质的气相色谱分析和有效碳数测定的标准试验方法
- ASTM D4961-99 异丙苯工艺生产的苯酚中主要有机杂质的气相色谱分析的标准试验方法
法国标准化协会，关于杂质 谱 分析的标准
- NF ISO 14237:2010 表面化学分析 二次离子质谱分析 使用均匀掺杂材料的硅中硼原子的剂量
